超低溫恒溫槽應用范圍：

1.對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

2.對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

超低溫恒溫槽操作規范：

1.槽內加入液態介質，使介質液面低于工作臺板30mm。應遵循以下原則：

  a.當工作溫度低于5℃時，液體介質一般選用無水乙醇或乙二醇；

  b.當工作溫度在5～85℃時，液體介質一般選用水；  

  c.當工作溫度低于85～95℃時，液體介質可選用15%甘油水溶液。

2.連通電源，開啟“電源”開關，開啟“循環”開關。

3.按SET鍵設定溫度，上排數碼管（PV）正常測溫，下排數碼管（SV）數據閃動，表示儀表進入溫度設定狀態。按△鍵設定值增大，按▽鍵設定值減小，溫度設定范圍在-5～100℃，持續按△鍵或▽鍵設定值會快速變化；zui后按一下SET鍵確認設定溫度，儀器開始工作。當上述操作完成后，儀器進入溫度自動控制狀態，測量溫度（PV）顯示槽內實際溫度。

4.關閉“電源”開關，分開空氣開關，電源切斷。